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> NdCl3镀液浓度对电镀CoNdNiMnP永磁薄膜阵列磁性能的影响
NdCl3镀液浓度对电镀CoNdNiMnP永磁薄膜阵列磁性能的影响
NdCl3镀液浓度对电镀CoNdNiMnP永磁薄膜阵列磁性能的影响
资料类型:
PDF文件
关键词:
CoNdNiMnP永磁薄膜阵列
电镀
垂直各向异性
铁磁耦合
资料大小:
126K
所属学科:
性能表征
来源:
来源网络
简介:
基于轻稀土元素-Nd与过渡金属元素-Co之间的铁磁耦合作用提高电镀CoNiMnP永磁薄膜阵列的磁性能,在电镀时引入稀土Nd元素进入CoNiMnP永磁薄膜阵列中,通过改变镀液中NdCl3的浓度而改变CoNdNiMnP薄膜中的Nd含量。对镀液中NdCl3浓度与薄膜磁性能的关系进行了分析与测试,结果表明:室温下,在电流密度为5mA/cm2时,具有垂直各向异性的CoNdNiMnP永磁薄膜阵列被成功地电镀得到。随着NdCl3浓度的增加,薄膜的磁性能提高,当NdCl3浓度增加到0.25103g/cm3时,薄膜的磁性能达到最大值,继续增加镀液中NdCl3浓度,薄膜阵列的磁性能不再增加。
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2007-07-16 14:14:04
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